反滲透膜元件常見6種污染物及去除方法

　反滲透膜元件的常見污染物及其去除方法：
 

　　1、碳酸鈣垢
 

　　在阻垢劑添加系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來，應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
 

　　注：應確保任何清洗液的PH不要低于2.0，盃則可能會RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，高的PH不應高于11.0。
 

　　查使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。
 

　　2、硫酸鈣垢
 

　　清洗液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的較佳方法。
 

　　3、金屬氧化物垢
 

　　可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
 

　　4、硅垢
 

　　對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專業水處理的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與水處理專業公司聯系。
 

　　5、有機沉積物
 

　　有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經認可的殺菌溶液在系統中循環、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，采用消毒處理，請與水處理專業公司會商以確定適宜的殺菌劑。
 

　　6、清洗液
 

　　清洗反滲透膜元件時建議采用水處理專用的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇較佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出較佳的清洗方法提供依據。