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    發布時間:2020-09-28 23:43 原文鏈接: 臺積電5nmSRAM技術細節解析(四)

    在寫操作中,LCV使能信號(LCVEN)變為高電平,它關閉下拉NMOS(N1),以將電荷共享電容器C1與地斷開。COL [n:0]選擇一列以關閉P0,并將陣列虛擬電源軌CVDD [0]與真實電源VDDAI斷開。由于金屬線電容隨存儲單元陣列的縮小而縮小,因此它也有利于SRAM編譯器設計,并在變化的BL配置下提供了相對恒定的電荷共享電壓電平。電荷共享水平由CVDD的金屬電容比和電荷共享金屬走線決定。圖10顯示了三個LCV-VDD比率分別為6%,12%和24%。

    圖10.三種LCV-VDD比率分別為6%,12%和24%。

    關閉寫輔助功能后,Vmin會受到寫失敗的限制。

    圖11中使用Write Assist的測量結果顯示NBL將Vmin提高了300mV,而24% LCV則將Vmin提高了300mV以上。

    圖11.(a)金屬電容器增強的寫輔助WAS-NBL方案和(b)金屬電荷共享電容器WAS-LCV方案的測量結果。


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