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    發布時間:2022-01-26 13:38 原文鏈接: 等離子清洗機的清洗原理

    等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,以達到清洗目的。

    在這種情況下,等離子處理可以產生以下效果:

    1、灰化表面有機層

    污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發,污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。

    紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應該太厚。指紋也適用。

    2、氧化物去除

    這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。

    3、焊接

    通常,印刷電路板應在焊接前用化學藥劑處理。焊接后,這些化學物質必須用等離子體法去除,否則會引起腐蝕和其他問題。


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