電鏡附件的原理及其應用——離子濺射儀／真空鍍膜機
在利用掃描電鏡分析非導電樣品時，因為樣品的不導電性，會在樣品表面累積電離子，因此在成像過程中會產生大量的放電現象，嚴重影響圖像質量。因此在觀察非導體時一般都要事先用真空鍍膜機或離子濺射儀在試樣表面上蒸涂（沉積）一層重金屬導電膜（我們一般是在試樣表面蒸涂一層金膜），這樣既可以消除試樣荷電現象，又可以增加試樣表面導電導熱性，減少電子束造成的試樣（如高分子及生物試樣）損傷、提高二次電子發射率。利用離子濺射儀制備試樣比真空鍍膜機制備表面導電膜能收到更好的效果。......閱讀全文
電鏡附件的原理及其應用——離子濺射儀/真空鍍膜機
在利用掃描電鏡分析非導電樣品時，因為樣品的不導電性，會在樣品表面累積電離子，因此在成像過程中會產生大量的放電現象，嚴重影響圖像質量。因此在觀察非導體時一般都要事先用真空鍍膜機或離子濺射儀在試樣表面上蒸涂（沉積）一層重金屬導電膜（我們一般是在試樣表面蒸涂一層金膜），這樣既可以消除試樣荷電現象，又可以增
電鏡附件的原理及其應用——EBSD附件
背散射電子衍射花樣與所測單晶體的晶體結構有關,利用此種關聯將其用作材料的結構研究方面變形成了背散射電子衍射分析技術,這就是我們通常說的EBSD(電子背散射衍射)。EBSD主要可做單晶體的物相分析,同時提供花樣質量、置信度指數、彩色晶粒圖,可做單晶體的空間位向測定、兩顆單晶體之間夾角的測定、可做特選取
電鏡附件的原理及其應用——波譜儀
波譜儀原理及應用波譜儀(即X射線波長色散譜儀,簡稱WDS)，用作微區成分分析。成分分析的原理可用λ=(d/R)L公式表示。λ是電子束激發試樣時產生的X射線波長,跟元素有關;d是分光晶體的面間距,為已知數;R是波譜儀聚焦園的半徑,為已知數;L是X射線發射源與分光晶體之間的距離。對于不同的L則有不同的X
電鏡附件的原理及其應用——能譜儀
能譜儀(即X射線能量色散譜儀,簡稱EDS)通常是指X射線能譜儀。能譜儀首先是在掃描電鏡和電子探針分析儀器上得到應用,其優點是可以分析微小區域(幾個微米)的成分,并且可以不用標樣。能譜儀收集譜線時一次即可得到可測的全部元素,因而分析速度快,另外,在掃描電鏡所觀察的微觀領域中,一般并不要求所測成分具有很
AJA－真空互聯磁控濺射鍍膜機共享應用
儀器名稱：真空互聯-磁控濺射鍍膜機儀器編號：20004165產地：美國生產廠家：AJA型號：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出廠日期：購置日期：2020-06-05項目名稱計價單位費用類別價格備注材料濺射元/小時自主上機機時費460.0Au等貴金屬加收100元/10nm所屬單位
電鏡附件的原理及其應用——高溫樣品臺
高溫臺配有專用陶瓷GSED(氣體二次電子探頭),可在環境模式下,在高達1500℃溫度下正常觀察樣品的二次電子像。加熱溫度范圍從室溫到1500℃,升溫速度每分鐘1～300℃。利用高溫樣品臺,可以觀察材料在加熱過程中組織轉變的過程,研究不同材料在熱狀態下轉變的差異。在材料工藝性能研究方面,可以直接觀察組
電鏡附件的原理及其應用——動態拉伸臺
動態拉伸裝置配有內部馬達驅動器、旋轉譯碼器、線性位移傳感器,由計算機進行控制和數據采集,配合視頻數據采集系統,可實現動態觀察和記錄。可從材料表面觀察在動態拉伸條件下材料的滑移、塑性形變、起裂、裂紋擴展(路徑和方向)直至斷裂的全過程等。拉伸臺與掃描電鏡結合：在進行材料拉、壓、彎以及疲勞實驗性能研究與分
磁控濺射鍍膜機共享應用
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
離子濺射儀濺射工作原理簡介
直流冷陰極二極管式，靶材處于常溫，加負高壓1-3kv，陽極接地。當接通高壓，陰極發射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發出的電子在電場中被加速，繼續轟擊氣體，產生聯級電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當其能量高于靶材原子的結合
磁控濺射鍍膜機共享
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
真空鍍膜機的結構原理
一、電控柜的操作?1. 開水泵、氣源 2. 開總電源 3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。 4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。 5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關
電子掃描顯微鏡蒸金試樣制備
?蒸金?? 利用掃描電鏡觀察高分子材料（塑料、纖維和橡膠）、陶瓷、玻璃及木材、羊毛等不導電或導電性很差的非金屬材料時，一般都要事先用真空鍍膜機或離子濺射儀在試樣表面上蒸涂（沉積）一層重金屬導電膜（我們一般是在試樣表面蒸涂一層金膜），這樣既可以消除試樣荷電現象，又可以增加試樣表面導電導熱性，減少電子束
平板儀及其附件
按其照準儀和基座的結構不同可分為：①大平板儀，是平板儀測量的主要儀器，由平板、照準儀、基座以及方框羅盤、對點器和獨立水準器等附件所組成；②小平板儀，主要用于碎部測圖，由小平板、測斜照準儀、基座以及方框羅盤、對點器和獨立水準器等附件所組成，可單獨使用，但通常與 經緯儀配合而僅用于瞄畫 方向線，單獨
小型離子濺射儀可以用來濺射銅嗎
小型的離子濺射儀分為低真空離子濺射和高真空離子濺射，根據原理又分為高電壓直流、低電壓磁控和離子束三種原理，目前市面上的離子濺射大部分是可以滿足您的需求，你可以查看上海禾早生產的離子濺射儀。
真空設備產品分類及特點
真空設備產品可分為五大類：(1)、真空獲得設備--產生、改善或維持真空的裝置。包括各種獲得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空機組。A、機械真空泵：旋片泵、往復泵、滑閥泵、羅茨泵、分子泵和液環泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸氣噴射泵、油增壓泵和油擴散泵等。C、氣體捕集真空泵：鈦濺射離子泵、低溫泵、分子篩吸
清華大學儀器共享平臺磁控濺射鍍膜機
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
循環式真空泵被應用于哪些領域
?循環式真空泵廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環：通過泵對槽內液體介質的循環吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環：
真空鍍膜機原理和各部件分析
一、真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用最多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼" target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。 二、輔助抽氣系統：排氣系統為鍍膜機真空系
陰極發光儀和離子濺射儀原理有什么區別
陰極發光儀和離子濺射儀原理有什么區別主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于物理學領域的物理性能測試儀器，于2010年2月21日啟用。 技術指標 雙室磁控濺射系統，極限壓力：主濺射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三個直流電源，兩個射頻電源，靶材直徑60mm；3、6個樣品工位，尺寸直徑30mm，基片加熱最高600度，退火
離子濺射儀操作流程相關介紹
1、一般工作距離可調，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。 2、離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產生的熱量越高；真空度越高,I 越小，濺射速度越慢，原子結晶晶粒越細小，電子轟擊樣品產生的熱量小。 3、加速電壓為固定
解析離子濺射儀常見故障
故障現象：使用一段時間后，濺射電流變小 解決方法：對靶材有無變色、破裂和油污等現進行檢查。前兩者對靶材進行更換，后者被油蒸汽污染，通過無水乙醇進行清潔，等到干了以后才能夠抽真空。 故障現象：在使用一段時間以后，有著過低的真空。 解決方法：對濺射室中或管道內是否有油進行檢查，能夠使用汽油進行
各種真空設備及如何選用真空泵
真空設備產品可分為五大類： (1)、真空獲得設備--產生、改善或維持真空的裝置。包括各種獲得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空機組。A、機械真空泵：旋片泵、往復泵、滑閥泵、羅茨泵、分子泵和液環泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽噴射泵、油增壓泵和油擴散泵等。C、氣體捕集真空泵：鈦濺射離子泵、低溫泵、
各種真空設備及如何選用真空泵
真空設備產品可分為五大類： (1)、真空獲得設備--產生、改善或維持真空的裝置。包括各種獲得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空機組。A、機械真空泵：旋片泵、往復泵、滑閥泵、羅茨泵、分子泵和液環泵等。B、蒸汽流真空泵：水蒸汽噴射泵、油增壓泵和油擴散泵等。C、氣體捕集真空泵：鈦濺射離子泵、低溫泵、
分體式冷水機主要特點等相關介紹
分體式冷水機是風冷冷水機的一種，他的制冷原理和一體式冷水機完全相同。 主要特點 分體式冷水機是分為室內機和室外機兩大部分。室內機主要包括蒸發器、控制器。室外機主要包括壓縮機、冷凝器、風扇。因此熱量全部排到室外，且室內機體積小，噪音低。 主要應用的設備 掃描電鏡、原子吸收、ICP、激光器、
磁致濺射儀的原理簡介
濺射法的原理是在惰性氣體或者活性氣體中在陽極和陰極蒸發材料間加上幾百伏的直流電壓，使之產生輝光放電，放電中的離子碰撞到陰極的蒸發材料靶上，靶材的原子就會由其表面蒸發出來，蒸發原子被惰性氣體冷卻而凝結或與活性氣體反應而形成納米顆粒。濺射是一個復雜的過程。濺射過程是建立在氣體輝光放電基礎上的。當兩電
物理氣相沉積的詳述
(一)真空蒸鍍原理(1) 真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發，使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。(2)氣態的原子、分子在真空中經過很少的碰撞遷移到基體。(3)鍍料原子、分子沉積在基體表面形成薄膜。(二)蒸發源將鍍料加熱到蒸發溫度并使之氣化，這種加熱裝置稱為蒸發源。
場發射掃描電子顯微鏡的指標信息和附件信息
指標信息 二次電子圖像（SEI） 分辨率1.5nm 背散射電子圖像（BEI) 分辨率3.0nm X射線能譜儀（EDS） 分辨率128ev 分析范圍B5～U92 電子背散射衍射（EBSP）空間分辨率 0.5μm 采集時間 20ms～2s/每菊池圖 數字圖像采集系統 分辨率512×384p
天美公司在中科院遺傳所舉辦電鏡應用講座
??? ?? 中國科學院遺傳與發育生物學研究所(簡稱遺傳發育所)是植物基因研究、分子農業生物學和發育生物學方面的國內權威研究機構。在對各類植物葉片、孢子等生物樣品進行微觀觀察的實驗中，掃描電鏡及其相關制樣設備是不可或缺的科學儀器。遺傳發育所在2005年購入日立S-3000N鎢燈絲掃描
真空鍍膜機清洗的工藝要求
真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。 污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，根據